Ultra-high-resolution nondestructive photolithography of quantum dots enabled by photo-shield crosslinker
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Ultra-high-resolution nondestructive photolithography of quantum dots enabled by photo-shield crosslinker
- Date Crossref
- 01/10/2025
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
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Ningbo Institute of Industrial Technology pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Hangzhou Bay Laboratory of Advanced Nano-Optoelectronic Materials and Devices pays non établi dans la noticeStructure de recherche
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Laboratory of Optoelectronic Information Technology and Devices pays non établi dans la noticeStructure de recherche
Ningbo Institute of Industrial Technology, Hangzhou Bay Laboratory of Advanced Nano-Optoelectronic Materials and Devices et Laboratory of Optoelectronic Information Technology and Devices.
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