Semi-supervised lithography hotspot detection based on feature fusion and residual attention
0Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
2Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés
Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Semi-supervised lithography hotspot detection based on feature fusion and residual attention
- Date Crossref
- 01/09/2025
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Où se fait cette recherche
-
Anhui University of Science and Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
-
Hefei University of Technology pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
-
School of Computer Science and Engineering pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
-
School of Artificial Intelligence pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
-
School of Microelectronics pays non établi dans la noticeUniversité ou école supérieure
Anhui University of Science and Technology, Hefei University of Technology et School of Computer Science and Engineering, avec 2 autres affiliations.
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.
Les sujets associés
Advancements in Photolithography TechniquesIndustrial Vision Systems and Defect DetectionImage Processing Techniques and Applications