Optimizing measurement accuracy in microscope-based reflectometry for thin film optical properties
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Le résumé fourni par la source
Abstract Accurate characterization of thin film optical properties is important for the electronics and photonics industries. This paper focuses on optimizing measurement accuracy for microscope-based reflectometers with an on-axis incident beam. Key factors analyzed include the distribution of angles of incidence in microscope geometry, spectrometer bandwidth correction, and sample thickness variations. We develop a reflectance model incorporating these factors, improving fit quality essential for reliable uncertainty analysis. Validation measurements with SiO2 on Si layers (10–2000 nm) using a working standard gonio-reflectometer show consistent thickness values with the microscope-based reflectometer, confirming the reliability of the approach.
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Le contrôle bibliographique ouvert
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- Titre Crossref
- Optimizing measurement accuracy in microscope-based reflectometry for thin film optical properties
- Date Crossref
- 20/06/2025
- Éditeur
- IOP Publishing
- Type
- journal-article
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Les institutions déclarées
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