Optical Design of an Ambient Pressure / UHV X-ray Photoelectron Spectroscopy Beamline at the Taiwan Photon Source
Rattachement africain : tw. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
Abstract An ambient pressure / UHV X-ray photoelectron spectroscopy beamline is designed to study critical physical and chemical processes, including catalysis, energy storage, and environmental science. The source of the beamline is from an elliptically polarizing undulator to cover the photon energy range from 200 to 3000 eV. In this optical design, the grating paired with the active mirror is applied to improve the impact of the optical aberrations and keep the light at the exit slit in focus. All parameters of optical components at the beamline are verified by a ray-tracing method and the expected performances are discussed.
Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Optical Design of an Ambient Pressure / UHV X-ray Photoelectron Spectroscopy Beamline at the Taiwan Photon Source
- Date Crossref
- 01/05/2025
- Éditeur
- IOP Publishing
- Type
- journal-article
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Les institutions déclarées
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