2025 conference-paper

Chemistry-informed machine learning model for EUV photoresist development

Taegyun Park, Sol Han, Sungwoo Hwang, Hong‐Joon Lee, Eunkyoung Byun, Sam-Jong Choi

0Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
0Institutions déclarées
0Pays d’affiliation déclarés
Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Chemistry-informed machine learning model for EUV photoresist development
Date Crossref
22/04/2025
Éditeur
SPIE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les sujets associés

Advancements in Photolithography TechniquesElectron and X-Ray Spectroscopy TechniquesIndustrial Vision Systems and Defect Detection
Consulter la publication primaire Ouvrir le DOI

BNTIC News n’est pas le producteur de ces données. Les publications sont interrogées à la demande dans Crossref, OpenAIRE, DOAJ, Europe PMC, HAL, DataCite, AfricArXiv, ROR et la Banque mondiale, sans clé d’accès. OpenAlex reste optionnel. Aucun service payant n’est nécessaire et aucune donnée externe n’est enregistrée en base. Consulter les sources et leurs limites.