Effect of N2 concentration on structural, morphological, and optoelectronic properties of Cu3N films fabricated by RF magnetron sputtering for photodetection applications
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Contrôle bibliographique ouvert
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- Titre Crossref
- Effect of N2 concentration on structural, morphological, and optoelectronic properties of Cu3N films fabricated by RF magnetron sputtering for photodetection applications
- Date Crossref
- 01/03/2025
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
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Institutions déclarées
Universidad Complutense de MadridUniversidad Rey Juan CarlosUniversidad de CádizUniversidad Autónoma de MadridInstituto de Catálisis y Petroleoquímica
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Sujets associés
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