200nm-pitched, Superconducting Nb Interconnects for Cryo-CMOS Application
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Le résumé fourni par la source
A 200nm-pitched, superconducting niobium (Nb) interconnects with TiN protecting layer are fabricated on a 300-mm wafer for cryo-CMOS used in Quantum State Controller (QSC) application. The developed Nb interconnects show superior superconductivity with a Tcof 7.8 K and a record-high Jcof 64MA/cm2at 4.2 K, which is high enough to local interconnects used in a cryo-CMOS circuit. For the first time, the SPICE simulation, using a 65nm-node cryogenic (4K) PDK with a technology file including Nb superconducting interconnects, estimates 40% improvement in signal delay in a typical use case. This result indicates that the power consumption in cryogenic CMOS operation can be reduced by the superconducting interconnects, as the operating voltage can be lowered while maintaining the same operational speed as that with the Cu interconnects.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- 200nm-pitched, Superconducting Nb Interconnects for Cryo-CMOS Application
- Date Crossref
- 03/06/2024
- Éditeur
- IEEE
- Type
- proceedings-article
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Les institutions déclarées
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