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2024 conference-paper

200nm-pitched, Superconducting Nb Interconnects for Cryo-CMOS Application

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Rattachement africain : jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

A 200nm-pitched, superconducting niobium (Nb) interconnects with TiN protecting layer are fabricated on a 300-mm wafer for cryo-CMOS used in Quantum State Controller (QSC) application. The developed Nb interconnects show superior superconductivity with a Tcof 7.8 K and a record-high Jcof 64MA/cm2at 4.2 K, which is high enough to local interconnects used in a cryo-CMOS circuit. For the first time, the SPICE simulation, using a 65nm-node cryogenic (4K) PDK with a technology file including Nb superconducting interconnects, estimates 40% improvement in signal delay in a typical use case. This result indicates that the power consumption in cryogenic CMOS operation can be reduced by the superconducting interconnects, as the operating voltage can be lowered while maintaining the same operational speed as that with the Cu interconnects.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
200nm-pitched, Superconducting Nb Interconnects for Cryo-CMOS Application
Date Crossref
03/06/2024
Éditeur
IEEE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

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