High-temperature continuous terahertz laser discharge at NovoFEL: parameters and applications
Rattachement africain : ru. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
A stable point-like thermodynamically-equilibrium plasma with diameter of 1 mm, density of $3 \times 10^{17}$ $\mathrm{cm}^{-3}$, and temperature of 4-4.5 $\mathrm{eV}(\mathbf{4 6 0 0 0 - 5 2 0 0 0 ~ K})$ was obtained in a continuous Kr- N2laser discharge at NovoFEL at an average radiation power of less than 200 W. Such plasma is a bright source of VUV radiation, and when its temperature reaches $10-12$ eV, it can be a bright source of EVUV radiation, necessary for modern photolithography.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- High-temperature continuous terahertz laser discharge at NovoFEL: parameters and applications
- Date Crossref
- 01/07/2024
- Éditeur
- IEEE
- Type
- proceedings-article
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Les institutions déclarées
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