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Accès ouvert déclaré 2024 article

Testbeam results of irradiated SiGe BiCMOS monolithic silicon pixel detector without internal gain layer

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3Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : ch, de, jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Abstract Samples of the monolithic silicon pixel ASIC prototype produced in 2022 within the framework of the Horizon 2020 MONOLITH ERC Advanced project were irradiated with 70 MeV protons up to a fluence of 1 × 1016 neq/cm2, and then tested using a beam of 120 GeV/c pions. The ASIC contains a matrix of 100 μm pitch hexagonal pixels, read out by low noise and very fast frontend electronics produced in a 130 nm SiGe BiCMOS technology process. The dependence on the proton fluence of the efficiency and the time resolution of this prototype was measured with the frontend electronics operated at a power density between 0.13 and 0.9 W/cm2. The testbeam data show that the detection efficiency of 99.96% measured at sensor bias voltage of 200 V before irradiation becomes 96.2% after a fluence of 1 × 1016 neq/cm2. An increase of the sensor bias voltage to 300 V provides an efficiency to 99.7% at that proton fluence. The timing resolution of 20 ps measured before irradiation rises for a proton fluence of 1 × 1016 neq/cm2 to 53 and 45 ps at HV = 200 and 300 V, respectively.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Testbeam results of irradiated SiGe BiCMOS monolithic silicon pixel detector without internal gain layer
Date Crossref
01/07/2024
Éditeur
IOP Publishing
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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