In situ monitoring of industrial-scale chemical vapor deposition using residual gas analysis
1Citations signalées — pas une note de qualité
3Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés
Résumé indisponible : les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits depuis son seul titre.
Contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- In situ monitoring of industrial-scale chemical vapor deposition using residual gas analysis
- Date Crossref
- 01/08/2024
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude et ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Institutions déclarées
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.
Sujets associés
Semiconductor materials and devicesIntegrated Circuits and Semiconductor Failure AnalysisAdvancements in Semiconductor Devices and Circuit Design