Ultra-High Endurance (>1012) and High Drive-Current Selector in Sub-30nmΦ Cell using Stable Oxide Doped with As-Se Free High Melting-Point Compound
Rattachement africain : jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
We demonstrate ultra-high endurance selector with excellent scalability toward high-performance cross-point storage class memory (SCM). By employing stable oxide doped with high melting-point $\left(T_{\mathrm{m}}\right)$ compound as a selector, atomic diffusion during cycling is strongly suppressed even for small cell (sub-30nm$\phi$) and high drive current, which is confirmed by thermal TCAD and ab initio calculations. The fabricated sub-30nm$\phi$ pillar As-Se free selector achieves 1012cycles, low half-selected current (~4nA) and high drive current density (~15MA/cm2).
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Le contrôle bibliographique ouvert
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- Titre Crossref
- Ultra-High Endurance (>10<sup>12</sup>) and High Drive-Current Selector in Sub-30nmΦ Cell using Stable Oxide Doped with As-Se Free High Melting-Point Compound
- Date Crossref
- 03/03/2024
- Éditeur
- IEEE
- Type
- proceedings-article
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Où se fait cette recherche
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KIOXIA Corporation (Japan) pays non établi dans la noticeEntreprise
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Institute of Memory Technology Research & pays non établi dans la noticeStructure de recherche
KIOXIA Corporation (Japan) et Institute of Memory Technology Research &.
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