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2024 conference-paper

Ultra-High Endurance (>1012) and High Drive-Current Selector in Sub-30nmΦ Cell using Stable Oxide Doped with As-Se Free High Melting-Point Compound

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Rattachement africain : jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

We demonstrate ultra-high endurance selector with excellent scalability toward high-performance cross-point storage class memory (SCM). By employing stable oxide doped with high melting-point $\left(T_{\mathrm{m}}\right)$ compound as a selector, atomic diffusion during cycling is strongly suppressed even for small cell (sub-30nm$\phi$) and high drive current, which is confirmed by thermal TCAD and ab initio calculations. The fabricated sub-30nm$\phi$ pillar As-Se free selector achieves 1012cycles, low half-selected current (~4nA) and high drive current density (~15MA/cm2).

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé, mais le titre doit être comparé manuellement.

Titre Crossref
Ultra-High Endurance (&gt;10<sup>12</sup>) and High Drive-Current Selector in Sub-30nmΦ Cell using Stable Oxide Doped with As-Se Free High Melting-Point Compound
Date Crossref
03/03/2024
Éditeur
IEEE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • KIOXIA Corporation (Japan) pays non établi dans la notice
    Entreprise
  • Institute of Memory Technology Research &#x0026 pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

KIOXIA Corporation (Japan) et Institute of Memory Technology Research &#x0026.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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