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2024 article

Strain-Released Cs5Cu3Cl6I2 Scintillators by Rb+ Doping for High-Resolution X-Ray Imaging

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Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

Scintillators with high light yield play a crucial role in medical diagnosis, security inspection, and nondestructive testing. Lead-free copper-based scintillators have recently gained attention for their remarkable luminescence efficiency, stability, and cost-effectiveness. However, their practical application in X-ray detectors is hindered by performance limitations and stability issues. In this study, we propose a strategy of metal ion doping to alleviate lattice strain in the Cs 5 Cu 3 Cl 6 I 2 scintillator. The incorporation of Rb + into the scintillator, termed Cs 5 Cu 3 Cl 6 I 2:Rb, resulted in outstanding light yield (LY), ultrahigh photoluminescence quantum yield (PLQY), and excellent luminescent stability against heat, humidity, and continuous X-ray irradiation. Additionally, Cs 5 Cu 3 Cl 6 I 2:Rb was in situ integrated with a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) using blade coating after mixing with polydimethylsiloxane (PDMS). Consequently, the Cs 5 Cu 3 Cl 6 I 2:Rb imaging device achieved a high spatial resolution over 10 line-pairs per millimeter, clearly revealing the internal details of objects. This outcome positions Cs 5 Cu 3 Cl 6 I 2:Rb as a promising candidate for high-resolution X-ray imaging. The study underscores the significance of strain regulation in enhancing scintillation properties and introduces an effective doping strategy to realize superior scintillators for high-resolution X-ray imaging devices.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé, mais le titre doit être comparé manuellement.

Titre Crossref
Strain-Released Cs<sub>5</sub>Cu<sub>3</sub>Cl<sub>6</sub>I<sub>2</sub> Scintillators by Rb<sup>+</sup> Doping for High-Resolution X-Ray Imaging
Date Crossref
02/04/2024
Éditeur
American Chemical Society (ACS)
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Sichuan University Department of Materials Science pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • China Academy of Engineering Physics pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Sichuan Research Center of New Materials pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Institute of Materials pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

Department of Materials Science — Sichuan University, China Academy of Engineering Physics et Sichuan Research Center of New Materials, avec 1 autre affiliation.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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