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2024 article

Impact of the Buffer Layers and Anodization on Properties of NbTiN Films for THz Receivers

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Rattachement africain : ru. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

In this paper, we present the results of the research aimed at improving the fabrication process of a SIS-mixer for operation at frequencies close to 1 THz. We study the impact of buffer aluminum oxide layer and anodization effects on the properties of superconducting NbTiN films which form the electrodes of the transmission lines in THz-range devices. These layers are traditionally used in technological processes. The measurements of THz response are performed using terahertz time-domain spectrometer at frequencies from 0.3 to 2.0 THz. It was found that the critical temperature, normal-state conductivity just above the transition temperature, superconducting gap value and London penetration depth of the NbTiN film sputtered on aluminum oxide buffer layer are almost the same as of the film sputtered directly onto the substrate. The difference between the parameters is comparable to the measurement uncertainty for NbTiN films with and without additional surface layers of aluminum and anodization.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Impact of the Buffer Layers and Anodization on Properties of NbTiN Films for THz Receivers
Date Crossref
01/05/2024
Éditeur
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Où se fait cette recherche

  • Moscow Institute of Physics and Technology pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Moscow Power Engineering Institute pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Kotelnikov Institute of Radioengineering and Electronics of the Russian Academy of Sciences pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Russian Academy of Sciences pays non établi dans la notice
    Organisme public
  • Astro Space Center pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • National Research University Moscow Institute of Physics and Technology pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Kotelnikov Institute of Radio Engineering and Electronics pays non établi dans la notice
    Structure de recherche

Moscow Institute of Physics and Technology, Moscow Power Engineering Institute et Kotelnikov Institute of Radioengineering and Electronics of the Russian Academy of Sciences, avec 4 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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