2023 article

Influence of Al doping and annealing on the microstructures and electrical properties of CrSi films prepared by magnetron co-sputtering

Houyu Ma, Yue Ma, Xue Han, J.H. Chen, Z. Yang, Shengdi Ta, Y.W. Zhang, Z.Y. Zhang, Zhenhua Cao

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Titre Crossref: Influence of Al doping and annealing on the microstructures and electrical properties of CrSi films prepared by magnetron co-sputtering
Date Crossref: 01/04/2023
Éditeur: Elsevier BV
Type: journal-article

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Les institutions déclarées

Nanjing Tech University Shanghai Ship and Shipping Research Institute

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Les sujets associés

Semiconductor materials and interfacesChalcogenide Semiconductor Thin FilmsZnO doping and properties

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