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2021 conference-paper

Laser Marking Hatch Contour Generation

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Résumé fourni par la source

Laser marking has been widely used in industrial processing. For different hatching methods, the operating efficiency and the clarity of the marking pattern are also different. Herein, we realize the zigzag parallel and contour parallel hatch of the single-layer and multi-layer contour pattern respectively based on different parameters, evaluate the algorithm, and give optimization strategies.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Laser Marking Hatch Contour Generation
Date Crossref
18/06/2021
Éditeur
ACM
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude et ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Institutions déclarées

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Sujets associés

Advanced Numerical Analysis TechniquesLaser Material Processing TechniquesLaser and Thermal Forming Techniques

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