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2010 article

Microfabrication of the combined AFM-SECM Sensors utilizing Focused Ion Beam and Isotropic Inductively Coupled Plasma-Reactive Ion Etching

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3Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : at, ch. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

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Où se fait cette recherche

  • TU Wien pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Kompetenzzentrum für elektrochemische Oberflächentechnologie pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • University of Bern pays non établi dans la notice
    Université ou école supérieure
  • Technische Universität Wien pays non établi dans la notice
    Institution
  • Institute for Chemistry and Technology of Materials (6380) pays non établi dans la notice
    Structure de recherche
  • Universität Bern pays non établi dans la notice
    Institution

TU Wien, Kompetenzzentrum für elektrochemische Oberflächentechnologie et University of Bern, avec 3 autres affiliations.

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

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