2018 article

A Novel Role for SiCN to Suppress H2O Outgas from TEOS oxide films in wafer bonding

Tetani Michinari, Yasunori Morinaga, Masakazu Hamada, Masahiko Takeuchi, Uya Shinji, Hisashi Yano, Naoaki Sato, Susumu Matsumoto

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