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2017 article

A positron-annihilation study of residual vacancies in n -type-doped Si after annealing

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Rattachement africain : jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Résumé indisponible. Les résultats de l’étude ne doivent pas être déduits de son seul titre.

Le contrôle bibliographique ouvert

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Où se fait cette recherche

  • Toshiba (Japan) pays non établi dans la notice
    Entreprise
  • Toshiba R&D pays non établi dans la notice
    Institution

Toshiba (Japan) et Toshiba R&D.

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