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2010 conference-paper

Fabrication and characterization of quantum Hall devices for the resistance standard at CMS

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6Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : tw, au. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

We fabricated AlGaAs/GaAs heterostructure-based quantum Hall devices for the resistance standard at Center for Measurement Standards (CMS). The measurements using a Direct Current Comparator (DCC) show the consistency between the plateaus of v=2 and 4 at the temperature T=2 K, where v is the filling factor. On the other hand, the plateaus of higher filling factors may be susceptible to the reduced localization strength, under which the semiclassical effects can be important. The coexistence of localization-induced gaps and semiclassical transport is discussed.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Fabrication and characterization of quantum Hall devices for the resistance standard at CMS
Date Crossref
01/06/2010
Éditeur
IEEE
Type
proceedings-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Quantum and electron transport phenomenaAdvancements in Semiconductor Devices and Circuit DesignAnalog and Mixed-Signal Circuit Design

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