TFA-MOD (Metal Organic Deposition Using Trifluoroacetates) Films with Thickness Greater Than 1 Micron by a Single Deposition
Rattachement africain : jp. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
The key to obtaining films with thickness greater than 1 micron by a single TFA-MOD deposition is a crack-preventing material. The ratio of fluorine atoms to total fluorine and hydrogen atoms (RF) of the chemical is important for forming excellent superconducting films. Although hydrogen atoms lead to carbon residue, which fatally deteriorates superconducting properties of the resulting film, hydrogen atoms form strong hydrogen bonds with trifluoroacetates and have an excellent crack-prevention effect. The RF range from 0.75 to 0.96 is effective for obtaining single-coated, thick, high-critical-current-density superconducting films.
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Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- TFA-MOD (Metal Organic Deposition Using Trifluoroacetates) Films with Thickness Greater Than 1 Micron by a Single Deposition
- Date Crossref
- 01/01/2012
- Éditeur
- Elsevier BV
- Type
- journal-article
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Les institutions déclarées
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