Pattern data processing using 1-nm address grid
Résumé fourni par la source
In the past years the address grid for layout design, data preparation and exposure has been constantly reduced. Currently the ITRS Roadmap specifies 4nm Mask Design Grid for the 100nm technology node. The possibilities and challenges of pattern data processing for the new generation of Leica's Shaped Beam (SB) exposure tools, called SB350MW, are highlighted in this paper. In this context such issues like data volume, data processing time and fracture quality for the new 1nm pattern data format are discussed in detail.
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Contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Pattern data processing using 1-nm address grid
- Date Crossref
- 16/08/2002
- Éditeur
- SPIE
- Type
- proceedings-article
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