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Accès ouvert déclaré 2008 article

Atomic structure of chlorinated Si(113) surfaces

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3Institutions déclarées
2Pays d’affiliation déclarés

Rattachement africain : de, gb. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.

Le résumé fourni par la source

We present a detailed investigation of the adsorption of Cl on the Si(113) surface based on x-ray standing-wave experiments and density-functional theory calculations with additional characterization by low-energy electron diffraction and scanning tunneling microscopy. For the whole accessible range of Cl coverages, $(2\ifmmode\times\else\texttimes\fi{}n)$-like surface reconstructions are identified. Despite this apparent complexity, it is shown that these surface structures consist of only a few atomic adsorption geometries with the most prominent one being the Cl adsorption on top of a Si surface adatom. The required redistribution of Si concurs with a pronounced straightening and alignment of step edges along the $[1\overline{1}0]$ direction. Furthermore, it is argued that this adatom site plays a key role in step-edge geometries on vicinal Si(111) and Si(001) surfaces.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.

Le contrôle bibliographique ouvert

DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.

Titre Crossref
Atomic structure of chlorinated Si(113) surfaces
Date Crossref
21/08/2008
Éditeur
American Physical Society (APS)
Type
journal-article

Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.

Les institutions déclarées

Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.

Les sujets associés

Surface and Thin Film PhenomenaElectron and X-Ray Spectroscopy TechniquesSemiconductor materials and devices

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