Helium-charged Titanium Films Deposited by Pulsed Laser Deposition in an Electron-Cyclotron-Resonance helium Plasma Environment
4Citations signalées, ce qui n’est pas une note de qualité
2Institutions déclarées
1Pays d’affiliation déclarés
Rattachement africain : cn. Niveau de preuve : code pays fourni par la source.
Le résumé fourni par la source
Helium-charged Titanium Films Deposited by Pulsed Laser Deposition in an Electron-Cyclotron-Resonance helium Plasma Environment, Jin Qin-Hua, Hu Pei-Gang, Ling Hao, Wu Jia-Da, Shi Li-Qun, Zhou Zhu-Ying
Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.
Le contrôle bibliographique ouvert
DOI retrouvé dans Crossref DOI retrouvé ; titre concordant.
- Titre Crossref
- Helium-charged Titanium Films Deposited by Pulsed Laser Deposition in an Electron-Cyclotron-Resonance helium Plasma Environment
- Date Crossref
- 27/02/2003
- Éditeur
- IOP Publishing
- Type
- journal-article
Ce recoupement confirme des métadonnées liées au DOI. Il ne confirme ni la méthode ni les conclusions de l’étude, et il ne compte pas comme une seconde source scientifique indépendante.
Les institutions déclarées
Une affiliation ne permet pas de déduire la nationalité d’un auteur.
Les sujets associés
Fusion materials and technologiesMetal and Thin Film MechanicsPlasma Diagnostics and Applications