MOCVD法在（220）CaF2衬底上生长ZnO薄膜及其性能研究

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采用金属有机化学汽相沉积（MOCVD）法在（220）CaF2衬底上外延生长ZnO薄膜。利用X射线衍射（XRD）、紫外-可见光谱和光致发光谱（PL）对ZnO薄膜的结构和光学性能进行了分析。XRD结果表明，所制备的ZnO薄膜结晶性能良好，具有高度的（002）的择优取向，002衍射峰的半高宽（FMHM）为0．115°。所制备的ZnO薄膜透明，透过率超过85％。在常温的（He—Cd激光器）PL谱中，只有378．5nm的带边发射。用同步辐射光源测试的真空紫外光谱中，在低温20K时，出现218nm、368nm、418nm、554nm发光峰，其中368nm峰强度随着温度的升高强度逐渐下降，到常温时几乎消失。

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