Modelowanie rozkładu pól magnetycznych służących do prowadzenia wiązki plazmy powstającej w wyładowaniach łukowych

Le résumé fourni par la source

Technologia nanoszenia cienkich warstw za pomocą luku elektrycznego przy obnizonym ciśnieniu (vacuum arc) jest znana od wielu lat i coraz cześciej stosowana w badaniach naukowych i przemyśle [1]. Za pomocą tej technologii mozliwe jest wytwarzanie cienkich warstw praktycznie dowolnego metalu (w zalezności od skladu chemicznego katody) lub związkow chemicznych, np. tlenkow lub azotkow (w zalezności od skladu katody i stosowanego gazu roboczego). Glowną wadą wyladowan lukowych realizowanych w warunkach prozniowych, przy ich stosowaniu do nakladania cienkich warstw, jest wystepowanie mikro-kropel metalu, ktore osiadając na powierzchni substratu zaburzają jednorodnośc nakladanej warstwy. Ta wada moze czasami dyskwalifikowac omawianą metode technologiczną. Dla wyeliminowania tej wady projektuje sie specjalne uklady, tzw. filtry magnetyczne, ktorych zadaniem jest wyeliminowanie mikro-kropel z uzytkowego strumienia plazmy.

Ce résumé expose les affirmations des auteurs. BNTIC ne l’interprète pas comme une validation indépendante des résultats.